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賽默飛光譜儀的用途以及特點(diǎn)

點(diǎn)擊次數(shù)：2866 更新時(shí)間2021-07-12 【關(guān)閉】

　　賽默飛光譜儀是優(yōu)異發(fā)光光譜分析儀器生產(chǎn)技術(shù)的結(jié)晶。具有超高靈敏度、超高掃描速度、*的光柵和水平狹縫光路設(shè)計(jì)，適用于高靈敏度的熒光痕量分析，應(yīng)用于材料、藥學(xué)和生命科學(xué)等高科技領(lǐng)域和質(zhì)控、教學(xué)等常規(guī)分析領(lǐng)域。

　　賽默飛光譜儀的主要用途：

　　賽默飛光譜儀具有重現(xiàn)性好，測(cè)量速度快，靈敏度高的特點(diǎn)。能分析F(9)～U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析對(duì)象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業(yè)樣品。無(wú)標(biāo)半定量方法可以對(duì)各種形狀樣品定性分析，并能給出半定量結(jié)果，結(jié)果準(zhǔn)確度對(duì)某些樣品可以接近定量水平，分析時(shí)間短。薄膜分析軟件FP-MULT1能作鍍層分析，薄膜分析。測(cè)量樣品的大尺寸要求為直徑51mm,高40mm。

　　賽默飛光譜儀主要特點(diǎn)：

　　1、特色樣品倉(cāng)附件：

　　a、光致發(fā)光量子產(chǎn)率測(cè)量附件，用于粉末材料的發(fā)光效率測(cè)定，波長(zhǎng)范圍240-800nm，用戶科研和工業(yè)控制。

　　b、細(xì)胞內(nèi)陽(yáng)離子測(cè)定，由于高的掃描速度，我們可以使用輕松使用雙波長(zhǎng)測(cè)定，專業(yè)軟件控制和數(shù)據(jù)采集，直接給出需要的結(jié)果。

　　c、停流附件可以用于快速反應(yīng)動(dòng)力學(xué)研究。

　　2、超高掃描速率和高靈敏度同時(shí)具備；快速完成3D光譜數(shù)據(jù)采集，3D時(shí)間掃描。

　　a、3D光譜也被稱為EEM 譜，提供測(cè)量范圍中全部光譜信息；用于混合有機(jī)化合物的分析；用于復(fù)雜化合物的指紋譜圖庫(kù)分析比如芳香族化合物、中藥、環(huán)境檢測(cè)。

　　b、快速提供未知樣品的的激發(fā)波長(zhǎng)和發(fā)射波長(zhǎng)的選取判斷。

　　c、用于判讀同步掃描的步長(zhǎng)差。

　　d、3D時(shí)間掃描，提供隨時(shí)間的全譜段的數(shù)據(jù)變化，特別有利于動(dòng)力學(xué)中間產(chǎn)物的監(jiān)控。

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