賽默飛 ARL 4460金屬分析儀火花直讀光譜儀
耐久可靠的結(jié)構(gòu)設(shè)計和制造工藝,確保儀器在種惡劣環(huán)境下都具有的分析性能。
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● 穩(wěn)定,可靠的硬件 ● 工廠校正曲線 ● 光譜制造技術(shù) ● 優(yōu)秀的分析軟件 ● 分析準確度更高,分析速度更快 ● 分析痕量元素和氣體元素具有新的突破 ● 分析范圍廣泛:適于分析鋼鐵,鋁,銅,鎂,錫,鉛,鋅,貴金屬等金屬材料 ● 對操作人員無特殊要求 技術(shù)規(guī)格 光普室設(shè)計: 一米焦距,帕邢龍格裝置,真空型,恒溫控制(38±0.10C),特殊鑄鐵材料制造,可設(shè)置60條通道 試樣臺: 充氬樣品臺內(nèi)置自循環(huán)水冷系統(tǒng) 光柵: 根據(jù)分析任務(wù),儀器配置以下三種光柵中的一種 1080gr/mm,1667gr/mm,2160gr/mm 分辨率: 視光柵,出射狹縫和光譜等到級而定 狹縫寬度: 入射狹縫:20um 出射狹縫:25 , 37.5 , 50 , 75um 光電倍增管: 直經(jīng)Φ28mm,10級側(cè)窗管,光學(xué)玻璃或人造石英窗 光源: 電流控制光源(CCS) 光譜儀控制: 利用CMOS技術(shù)的APL MMB386微處理器,帶狀態(tài)控制卡每條通道均配置數(shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換器和衰減器分為41檔測量電子部分的動態(tài)范圍與測量時間成正比,一般為2×106計數(shù)/秒 12位可編程衰減器 時間分辨光譜(TRS) 環(huán)境要求:室溫:16~300C,更大允許溫差為50C/小時相對濕度20~80% 電力要求:電壓230V(+10%-15%),保護性接地的單相電源 (電壓波動超過±10%時需用5KVA穩(wěn)壓器)。電流12A,頻率50或60Hz;功率2.5KVA接地電阻1Ω 歐洲標準:89/392/EEC低壓材料,89/366/EEC電磁 氬氣要求: 純度99.995%,更大含量5ppm(分析高Si樣品時,更大含量為2ppm) 流量3.5升/分(分析時),0.35升/分(待機時) 幾何尺寸: 長1385(不計激發(fā)臺) ×寬910×高1220mm 長1690(計激發(fā)臺) ×寬910×高1220mm 系統(tǒng)重理: 約540公斤 輔助設(shè)備: 氬氣凈化器 瓶裝氬氣配氣系統(tǒng) 穩(wěn)壓器 制樣機